真空氣氛爐廣泛應用于實驗室、工礦企業、科研單位的前期實驗，還原氣氛、惰性氣氛、氫氮混合氣氛等三種類型。額定溫度分別為1100℃、1400℃、1500℃、1650℃，根據不同的氣氛，不同的溫度，使用不同的加熱元件，型號齊全，安全可靠，同時也可滿足于不同工藝實驗而特殊制造。本系列設備的成套供應范圍有溫度控制器、流量計、減壓閥、熱電偶、補償導線等。溫度控制采用可控硅控制，40段PlD高級可編程溫度自動控制，具有超溫報警等保護功能，嚴格控制產品的燒制過程。

氣氛回轉爐主要用于銀基粉末燒結或顆粒在氣氛保護中的動態燒結。旋轉過程中銀基粉末或顆粒能翻轉、拋落，使物料受熱更均勻，減少結團、品質更高。進出料方便，且出料干凈。

該系列真空氣氛爐氣氛爐是一種新型保護氣氛實驗爐廣泛應用于實驗室、工礦企業、科研單位的前期實驗，還原氣氛、惰性氣氛、氫氮混合氣氛等三種類型。

真空氣氛爐，實驗電爐

該系列真空氣氛爐氣氛爐是一種新型保護氣氛實驗爐廣泛應用于實驗室、工礦企業、科研單位的前期實驗，通入氫氣、氬氣、氨分解等其它惰性氣體。

井式氣體氣氛爐各種鋁材模具，擠壓模具、螺桿、絲桿、等零配件表面氮化，氮碳共滲，尤其適合有狹縫，深孔，盲孔模具的氮化處理。

石墨管式爐主要用于CVD實驗，也運用于冶金，玻璃，熱處理，鋰電正負極材料，新能源，磨具等行業測定材料在一定氣氛條件下的專業設備。旋轉管式爐和傳統的馬弗爐相比，它的Z大優點在于爐管是轉動的，物樣在加工過程中，不停地翻動。因此加工質量好，效率高，并且取得的實驗數據較接近于生產狀態。由于可以連續出料，所以加工大量物樣時，更能顯示其優越性。另外旋轉回轉窯爐管的兩端采取了密封措施，所以在使用過程中還可通入氧

高溫不銹鋼熱處理真空氣氛爐，鋁合金鈦合金氣氛實驗保護爐概述 應用于電子元器件、新型材料及粉體材料稀土燒結的真空氣氛處理，材料在惰性氣氛環境下進行燒結，也適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理。

應用于電子元器件、新型材料及粉體材料稀土燒結的真空氣氛處理，材料在惰性氣氛環境下進行燒結，也適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理。

箱式氣氛爐適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理，應用于電子元器件、新型材料及粉體材料的真空氣氛處理，材料在惰性氣氛環境下進行燒結。